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本公开提供了曝光后烘烤方法。在一个示例中，该方法包括将具有光刻胶层的工件放置在设置于加工室中的工件支撑体上。该方法包括通过光掩模将光刻胶曝光于具有一定波长的光子。该方法包括对具有光刻胶加热层的工件进行曝光后烘烤加热过程。曝光后烘烤加热过程可...该专利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司授权不得商用。