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一种用于清洗离子光学多极装置的电极的清洗装置包含至少一个基本上纵向的清洗区段、从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个处理区段和从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个方向区段。所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面...该专利属于塞莫费雪科学(不来梅)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过塞莫费雪科学(不来梅)有限公司授权不得商用。
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