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本专利申请案涉及形成电子装置的方法及相关电子装置及电子系统。一种电子装置包括：电介质结构；互连结构，其延伸到所述电介质结构中且具有所述电介质结构的最上垂直边界上方的最上垂直边界；额外屏障材料，其覆盖所述电介质结构的所述最上垂直边界上方的所述...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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