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本发明涉及晶硅电池背钝化领域。一种晶硅电池背钝化叠层结构，背面膜层结构自下而上为SixNy/SiOxNy/AlOx，AlOx膜之上为P型硅基体，其中，氧化铝AlOx膜层的折射率为1.6‑1.65，膜厚为5‑10nm，氮氧化硅SiOxNy膜层...
该专利属于山西潞安太阳能科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过山西潞安太阳能科技有限责任公司授权不得商用。

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