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本申请涉及一种微腔刻蚀基底盛放装置及微腔刻蚀系统。上述微腔刻蚀基底盛放装置，包括基座、置片架以及旋转控制单元。所述置片架可转动的设置于所述基座，所述置片架开设有置片槽，所述置片槽用于放置基底材料。所述旋转控制单元与所述置片架连接，用于控制所...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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