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本发明公开了一种能提高控温精度的基片安装台及等离子体处理设备，该基片安装台包含依次设置的导电基座、热隔离层、加热层、控温层和静电吸盘层；该导电基座中还设有冷却系统；该控温层内设置一空腔，所述空腔内填充有金属相变材料，在等离子处理过程中，金属...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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