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提高溅射离化率的溅射阴极、真空镀膜系统及镀膜方法技术方案
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下载提高溅射离化率的溅射阴极、真空镀膜系统及镀膜方法的技术资料
文档序号:24793305
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本公开提供了提高溅射离化率的溅射阴极、真空镀膜系统及镀膜方法,其中溅射阴极包括:中空圆柱筒型靶套,所述靶套内设有靶材;冷却系统,置于所述靶套外壁;环形磁铁,均匀安装在靶材后侧并靠近靶材端口处,且与冷却系统相邻;所述环形磁铁及冷却系统外侧设有...
该专利属于北京大学深圳研究生院所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学深圳研究生院授权不得商用。
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