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本发明涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。即便在具有不均匀的压力分布的腔室内一边使溅射区域移动一边进行溅射的情况下，也可以抑制溅射的品质降低。成膜装置(1)具有：在内部配置成膜对象物(6)和靶(2)的腔室(10)、以及使从靶(2)...
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