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本实用新型公开了一种晶体切割用调节支架,包括工作台,工作台顶部左右两侧设有活动支撑板和固定支撑板,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧均开设有滑槽,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧顶部均滑动设有活动支架座,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧...该专利属于福州新三捷光电技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过福州新三捷光电技术有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种晶体切割用调节支架,包括工作台,工作台顶部左右两侧设有活动支撑板和固定支撑板,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧均开设有滑槽,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧顶部均滑动设有活动支架座,活动支撑板与固定支撑板相互贴近一侧...