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本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案...该专利属于三星显示有限公司;株式会社东进世美肯所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司;株式会社东进世美肯授权不得商用。
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