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本实用新型具体公开了一种立式真空镀膜炉，包括真空室（1）、真空镀膜室（2）、低真空系统（3）、高真空系统（4）、维护系统（5）和输送装置（6），所述低真空系统（3）和高真空系统（4）位于真空室（1）的左端并且与真空室（1）相连通，所述真空镀...
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