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提供了结合基底的设备和结合基底的方法。基底结合设备包括下吸盘、上吸盘、位于上吸盘的中心部分上的电致动器、压力传感器以及控制器。下吸盘可以支撑下基底，上吸盘可以面对下吸盘，使得上吸盘的下表面面对下吸盘的上表面，并且上吸盘可以支撑上基底。电致动...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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