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操作IC制造系统的方法包括:基于所述单元的时序关键路径,确定单元的n型有源区域还是单元的p型有源区域是第一有源区域,在单元的IC布局图中沿单元高度方向定位第一有源区域,第一有源区域具有在垂直于单元高度方向的方向上延伸的第一总数量的鳍。该方法...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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操作IC制造系统的方法包括:基于所述单元的时序关键路径,确定单元的n型有源区域还是单元的p型有源区域是第一有源区域,在单元的IC布局图中沿单元高度方向定位第一有源区域,第一有源区域具有在垂直于单元高度方向的方向上延伸的第一总数量的鳍。该方法...