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本发明一实施方式提供了一种沟槽隔离结构的形成方法及介电膜的形成方法，该沟槽隔离结构的形成方法包括提供具有至少一沟槽的衬底；在所述沟槽内沉积介质材料；以及先通过臭氧再通过紫外光对所述介质材料进行固化处理，在所述沟槽内形成介质层。本发明一实施方...
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