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一种高色散镜膜系的设计方法，初始膜系结构为：S/(HL)^(m/2)C[(HL)^(m/4)C]^n(HL)^(2)/A,其中S表示基底，H和L分别代表光学厚度为λ/4的高低折射率材料，m为高反射膜层的周期数，n为谐振腔周期数，C为谐振腔，...该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。
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一种高色散镜膜系的设计方法，初始膜系结构为：S/(HL)^(m/2)C[(HL)^(m/4)C]^n(HL)^(2)/A,其中S表示基底，H和L分别代表光学厚度为λ/4的高低折射率材料，m为高反射膜层的周期数，n为谐振腔周期数，C为谐振腔，...