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本发明涉及一种用于纳米厚度SiO2厚度的差分反射光谱测量方法，包括以下步骤：制备标准样品：制备SiO2层厚为100nm标准样品，对SiO2表面粗糙度Sa值进行检定；确定标准样品的厚度值和光学常数；确定测量装置的透光系数；建立差分光谱测量的多...
该专利属于天津大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津大学授权不得商用。

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