下载半导体装置的技术资料

文档序号:23895679

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

公开了一种半导体装置。所述半导体装置包括:第一导电型半导体层,包括第一下导电型半导体层和第一上导电型半导体层;V‑坑,穿过第一上导电型半导体层的至少一部分;第二导电型半导体层,位于第一导电型半导体层上并填充V‑坑;活性层,置于第一导电型半导...
该专利属于首尔伟傲世有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过首尔伟傲世有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。