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本发明公开了一种改善激光发射源的方法、激光发射源以及光刻系统，所述改善激光发射源的方法包括：提供一放电腔，放电腔内通入有气体，对放电腔施加一激光发射电压以及一脉冲电压，使得气体放电，产生激光。本发明具有缩短起辉时间，提高气体的利用率的优点。...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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