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一种新型纳米多层结构复合阻氚涂层制造技术
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文档序号:22970515
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本发明公开了一种新型纳米多层结构复合阻氚涂层,通过物理气相沉积方法,利用设备中的两个靶材,交替沉积两种材料实现多层膜,得到周期性交替生长的纳米多层结构复合涂层,基于纳米多层结构的特点,涂层中引入丰富的横向界面可以捕获氚,形成具有高束缚能的陷...
该专利属于武汉大学所有,仅供学习研究参考,未经过武汉大学授权不得商用。
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