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本公开涉及真空炉技术领域,尤其涉及一种真空炉积炭检测装置及真空炉。该真空炉积炭检测装置包括支撑座、第一导电柱、第二导电柱和电阻测量器,其中:支撑座能够设于真空炉的加热腔内,且支撑座具有能够沉积积炭层的沉积面;第一导电柱及第二导电柱中至少一部...该专利属于中山凯旋真空科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中山凯旋真空科技股份有限公司授权不得商用。
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本公开涉及真空炉技术领域,尤其涉及一种真空炉积炭检测装置及真空炉。该真空炉积炭检测装置包括支撑座、第一导电柱、第二导电柱和电阻测量器,其中:支撑座能够设于真空炉的加热腔内,且支撑座具有能够沉积积炭层的沉积面;第一导电柱及第二导电柱中至少一部...