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本发明提供了一种太阳能硅片的刻蚀设备和制备系统,刻蚀设备包括:传输组件;氧化组件,包括臭氧发生装置、气液混合装置和臭氧水反应槽;传输组件用于将太阳能硅片传送至臭氧水反应槽,使太阳能硅片的表面形成氧化膜;水膜组件,设置在氧化组件后方,用于在氧...该专利属于常州捷佳创精密机械有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过常州捷佳创精密机械有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种太阳能硅片的刻蚀设备和制备系统,刻蚀设备包括:传输组件;氧化组件,包括臭氧发生装置、气液混合装置和臭氧水反应槽;传输组件用于将太阳能硅片传送至臭氧水反应槽,使太阳能硅片的表面形成氧化膜;水膜组件,设置在氧化组件后方,用于在氧...