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用于监测光刻制造过程的方法和设备技术
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下载用于监测光刻制造过程的方法和设备的技术资料
文档序号:22244398
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公开了用于监测光刻过程的方法和相关联的光刻设备。所述方法包括:获得与由衬底支撑件支撑的衬底相关的高度变化数据,和通过所述高度变化数据拟合回归,所述回归近似于所述衬底的形状;确定所述高度变化数据和所述回归之间的残差数据;和监测所述残差数据随时...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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