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本发明公开一种真空镀膜用高温裂解炉，包括低温蒸发区、控制阀门、高温裂解区、加热和测温组件，低温蒸发区采用双层温区炉，两炉层之间通入冷却水，低温蒸发区内部是坩埚，高温区是裂解器，坩埚和裂解器的温度由电源控制器通过对灯丝的加热来控制，固体源装载...
该专利属于大连齐维科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连齐维科技发展有限公司授权不得商用。

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