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一种金刚石基薄膜片式电阻器元件的制备方法，属于电子元器件制造领域。采用CVD方式在原始载体上沉积金刚石膜，然后依次完成研磨、抛光、划片以及刻蚀处理工序；随后在图形化CVD金刚石膜表面构建薄膜电阻器，并通过热处理工艺实现薄膜电阻器的调阻；随后...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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