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本发明涉及选择性图案化用于抗等离子体陶瓷涂层施加的表面的方法。提供一种为用于等离子体处理室中的部件提供抗等离子体陶瓷涂层的方法。在部件上放置图案化的掩模。在部件上沉积膜。去除图案化的掩模。在部件上施加抗等离子体陶瓷涂层。...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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