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本实用新型提供了一种用于晶体硅片的清洗设备，包括依次排列的水膜槽、酸洗槽、碱洗槽、转换槽及清洗槽，所述酸洗槽内设有包含HF的酸溶液，以实现晶体硅片背表面的清洗；所述碱洗槽用以实现晶体硅片背表面的制绒或抛光；所述清洗槽内设有HCl溶液，以对晶...该专利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司授权不得商用。