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本申请案涉及用于清洁用于形成半导体装置的工具的组件及系统以及相关方法。一种清洁用于形成半导体装置的工具的方法包含：加热包括陶瓷材料的晶片以至少加热所述陶瓷材料；将所述经加热晶片定位于用于形成半导体装置的工具的静电卡盘上，使得位于接近所述经加...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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