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测量系统、光刻系统和测量目标的方法技术方案
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下载测量系统、光刻系统和测量目标的方法的技术资料
文档序号:21487243
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公开了一种测量系统,其中,第一光学系统将输入辐射束分隔成多个分量。调制器接收所述多个分量并以独立于所述多个分量中的至少一个其它分量的方式将调制施加至所述多个分量中的至少一个分量。第二光学系统利用所述多个分量照射目标并将被所述目标散射的辐射引...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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