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本发明提供一种抛光设备及方法，该抛光设备包括：催化研磨垫，其表面包含有催化剂；第一旋转装置，连接于催化研磨垫，并为催化研磨垫提供顺时针与逆时针两种旋转动力；晶圆固定盘，用于固定待研磨晶圆，使得待研磨晶圆与催化研磨垫接触；第二旋转装置，连接于...
该专利属于上海新昇半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新昇半导体科技有限公司授权不得商用。

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