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本发明提供一种纳米图案的拼接方法、纳米压印板及光栅，涉及纳米压印技术领域，所述纳米图案的拼接方法包括：初始压印步骤：在衬底基板的拼接区域内形成压印胶层；采用纳米压印母板对所述压印胶层进行纳米压印，形成纳米图案；超疏水处理步骤：对所述纳米图案...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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