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本实用新型提供了一种光刻机台供水设备、涂胶显影机和光刻机，光刻机台供水设备包括供水管路，其被配置为向显影后的晶圆表面提供去离子水，所述供水设备还包括与所述供水管路连接的溶气装置以及向所述溶气装置中通入气体的供气管路，经过所述溶气装置的去离子...
该专利属于德淮半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德淮半导体有限公司授权不得商用。

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