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一种利用高能离子体在真空状态下撞击目标靶材的设备制造技术
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下载一种利用高能离子体在真空状态下撞击目标靶材的设备的技术资料
文档序号:19735555
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本发明属于镀膜技术领域,具体的说是一种利用高能离子体在真空状态下撞击目标靶材的设备,包括箱体、靶材、伸缩杆和翻转模块;箱体顶部固定安装伸缩杆;翻转模块包括转盘、料杆、第一转轴、第二转轴、转环和固定环;伸缩杆的端头通过滚珠丝杠副连接着转盘,伸...
该专利属于余泽军所有,仅供学习研究参考,未经过余泽军授权不得商用。
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