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一种射频等离子体清洗装置制造方法及图纸
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文档序号:19725499
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本发明公开了一种射频等离子体清洗装置,包括:进气装置、等离子体发生装置和真空室,其特征在于,所述进气装置包括进气混合管路、进气管路和进气阀,所述真空室包括腔体和调节导轨,所述等离子体发生装置包括电极接线柱、电极托盘和射频电源,所述腔体为长方...
该专利属于合肥杰硕真空科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥杰硕真空科技有限公司授权不得商用。
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