下载一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置的技术资料

文档序号:19585732

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本实用新型公开了一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置,包括射频机构、沉积箱以及透波板,所述进气管连接于进气口上,所述出气管连接于出气口上;所述进气管和出气管之间设置有均流管,所述均流管两侧分别设置有射频机构,所述透波板设置于衬底和射频板之...
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