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形成具有内接触间隔件的保护装置的方法及所产生的装置制造方法及图纸
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下载形成具有内接触间隔件的保护装置的方法及所产生的装置的技术资料
文档序号:19025295
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本发明涉及形成具有内接触间隔件的保护装置的方法及所产生的装置,其中,一种方法包括形成第一多个栅极结构。形成第二多个栅极结构。在该第一及第二多个栅极结构的每一者上形成一第一间隔件。在该第一多个栅极结构的第一对的该第一间隔件之间界定一第一空腔。...
该专利属于格芯公司所有,仅供学习研究参考,未经过格芯公司授权不得商用。
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