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本实用新型涉及一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置。本实用新型包括有第一真空泵、第一真空压力变送器、第一气液分离罐、以及第一脱气膜的前级脱气系统；有氢气接入源、第四电磁阀、气体压力控制器、第三电磁阀、第一电磁阀以及催化除氧器的催化除氧系统；有...
该专利属于浙江启尔机电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江启尔机电技术有限公司授权不得商用。

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