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本公开涉及像素单元及其制造方法以及成像装置。像素单元可以包括衬底，包括用于光电器件的第一部分和用于与光电器件耦合的晶体管的第二部分。第一部分包括第一掺杂区。第二部分包括：与第一掺杂区相邻的沟道形成区，沟道形成区的导电类型与第一掺杂区的导电类...
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