专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
MEMC电子材料有限公司
>
憎水性硅片的清洗方法技术
>技术资料下载
下载憎水性硅片的清洗方法的技术资料
文档序号:1829921
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
提出一种能够清除硅片的憎水性表面上的微粒的方法,此法是对硅片的憎水性表面进行化学氧化处理,使其表面上生长出一个氧化物层,而不会对表面产生非均匀腐蚀。这个氧化物层使表面呈现亲水性。然后,用苛性腐蚀液对此亲水性表面进行清洗,便可将表面上的微粒除...
该专利属于MEMC电子材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过MEMC电子材料有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。