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一种高质量单晶的生长方法技术
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文档序号:1828756
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本发明公开了一种从坩埚内的熔融体生长单晶的方法。该方法包括如下步骤:沿着平行于所述单晶长度方向的轴,从所述单晶与所述熔融体的界面开始,使所述熔融体的温度逐渐上升至最高点,然后逐渐降低至所述坩埚底部。维持所述熔融体的升温温度梯度大于其降温温度...
该专利属于希特隆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过希特隆股份有限公司授权不得商用。
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