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本发明公开了一种制备纳米材料的真空管式设备，它包括密封的真空室（２），所述真空室（２）设置在炉体（１）内，真空室（２）内气流下游处设置有衬底（７），其特征是：该真空室（２）连接有至少一个能控制和调节源材料蒸发速率的源材料蒸发器（１６）。本发...
该专利属于西安建筑科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安建筑科技大学授权不得商用。

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