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一种新型的纳米磁性薄膜的制备工艺，它可以精确的控制纳米磁性薄膜的沉积速度，从而控制薄膜的厚度且尺寸分布比较均匀。同时，新工艺可以降低不同成分的原子在溅射过程中的选择性，延长靶材的使用寿命。最重要的是，新工艺可以选用新型的靶材，节约材料，简化...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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