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本实用新型提供一种具有单离子束和双离子束以及多离子束溅射淀积，能产生单质、二组元、三组元、四组元成分，原位反应共溅射淀积纳米膜（含微米膜）的、具有批量生产能力的、通用性强、运行可靠的多离子束共溅射淀积纳米膜装置，同时该装置还具有离子束辅助淀...
该专利属于雷卫武所有，仅供学习研究参考，未经过雷卫武授权不得商用。

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