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本发明关于一种低温多晶硅阵列基板、阵列基板的制造方法及其显示装置，该制造方法包括如下步骤：提供一基板，该基板包括相对的二端，基板上设置电极；涂布有机膜层在基板的电极表面上；曝光所述有机膜层；旋转所述基板180度，使该基板相对的二端反转；显影...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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