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本发明提供一种用于处理待处理的物体的设备和方法和用于其的平台单元。所述设备包含：腔室，其具有处理待处理的物体用的处理空间；底座，包括一个表面，面对一个表面的另一个表面，以及配置成将所述一个表面连接到所述另一个表面的侧表面；托盘，包含可变固定...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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