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本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种磁控溅射装置，包括壳体，壳体设置有密闭空腔，密闭空腔设置有靶材和基板；密闭空腔设置有进气口和出气口，靶材的内部设置有若干个冷却管，冷却管一端均与进水分流管相连接，进水分流管一端与主进水管相连接，冷...
该专利属于欧钛鑫光电科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过欧钛鑫光电科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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