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本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，化学机械研磨装置包括：研磨平板；研磨垫，其配置于研磨平板的上面并与基板接触；表面特性检测部，其对研磨垫的表面特性进行检测，通过所述化学机械研磨装置可获得的有利效果在于，准确地对研磨垫的状态进行感知，并且根...
该专利属于K.C.科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过K.C.科技股份有限公司授权不得商用。

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