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本发明提供了一种沉积制备磨粒图案分布磨盘的方法，所述的磨盘为包括但不限于磨轮、砂轮、端面磨盘、滚轮、修整器、CMP修整器、磨垫、钻头，包含以下步骤：1)确定临时覆盖层的厚度；2)根据磨粒图案的分布对临时覆盖层进行镂空处理；3)将临时覆盖层覆...
该专利属于华侨大学所有，仅供学习研究参考，未经过华侨大学授权不得商用。

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