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所要求保护的本发明包括用于化学机械平坦化的新型水性浆料，其对于以高抛光速率抛光铜有效。根据本发明的水性浆料包括ＭｏＯ↓［２］或ＭｏＯ↓［３］的粒子和氧化剂。一种用于通过化学机械平坦化抛光铜的方法包括用抛光垫和包括ＭｏＯ↓［２］或ＭｏＯ↓［３...该专利属于克莱麦克斯工程材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过克莱麦克斯工程材料有限公司授权不得商用。
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