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本发明提供气化原料供给装置和采用该供给装置的基板处理装置。该气化原料供给装置包括：1个气化原料生成部件，其用于使固体或液体的原料气化而生成气化原料；多个分支配管，其连接于该气化原料生成部件，用于使生成的所述气化原料分支到多个系统；以及多个流...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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