温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种熔石英表面纳米级损伤前驱体的钝化工艺，包括以下步骤：（1）对均方根粗糙度Rq小于0.5nm的熔石英元件表面进行等离子体清洗处理，以去除熔石英元件表面的水解层，暴露出熔石英元件亚表面的纳米级损伤前驱体；（2）对经步骤（1）处理...
该专利属于中国人民解放军国防科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科学技术大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。